Догоним и перегоним США: Россия создаст «убийцу» американских станков для чипов

29 ноября 2024

Минпромторг запустил амбициозный проект по разработке отечественной установки химико-механического полирования для производства микросхем, аналогичной американской MIRRA Mesa Integrated System 200 от Applied Materials. На реализацию проекта выделено 1,7 млрд рублей.

Новое оборудование предназначено для изготовления чипов с топологическими нормами от 180 до 90 нанометров на кремниевых пластинах диаметром 200 мм. Основными потребителями станут ведущие российские производители микроэлектроники — зеленоградские заводы «Микрон» и «НМ-ТЕХ», а также ряд других предприятий.

Техническое значение проекта

Разрабатываемая установка будет выполнять критически важные функции в производстве микросхем:

Планаризацию диэлектрического слоя диоксида кремния.
Отмывку пластин после обработки.
Измерение толщины диэлектрического слоя.

По словам эксперта RUSmicro Алексея Бойко, планаризация — это ключевой процесс удаления неровностей с поверхности полупроводниковой пластины. Точность этой операции критически важна для последующих этапов производства, особенно для ионной имплантации, где требуется прецизионное распределение ионов на поверхности.

Стратегическая независимость

Важное требование проекта — использование исключительно отечественных комплектующих и материалов для устранения зависимости от иностранных производителей. Срок завершения работ установлен на 30 ноября 2028 года.

Масштабная программа развития

Данный проект является частью комплексной стратегии Минпромторга по развитию отечественного электронного машиностроения. В рамках этой программы министерство уже инициировало ряд крупных проектов:

Выделение более 2 млрд рублей на освоение производства материалов для чипов.
Инвестиция 100 млрд рублей в создание индустрии оборудования для производства микросхем.
Разработка установки для отмывки и сушки SMIF-контейнеров (476,8 млн рублей).
Выделение 400 млн рублей на освоение технологии производства пластин легированного монокристаллического кремния.
Инвестиция около 500 млн рублей в создание оборудования для настройки отечественных литографов.

Целевые показатели программы включают достижение производства 100 тысяч пластин к 2027 году при сохранении конкурентоспособной себестоимости на уровне импортных аналогов.

Проект реализуется в рамках государственной программы «Научно-технологическое развитие Российской Федерации» и направлен на создание полного технологического цикла производства электронных компонентов: от изготовления полупроводниковых пластин до финальной резки на отдельные чипы.

Тендер на выполнение работ опубликован 11 ноября в формате открытого конкурса, определение исполнителя запланировано на 10 декабря.