Микрон готовится к революции в производстве памяти: EUV-технология на горизонте
В 2024 году ожидается значительный прорыв в сфере производства полупроводниковой памяти. Компания Микрон, один из ведущих игроков на рынке, планирует начать пробное производство DRAM с использованием технологии экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV) по 10-нанометровому техпроцессу класса 1γ (1-гамма).
В настоящее время все массовые продукты Микрон производятся с применением глубокой ультрафиолетовой литографии (DUV). Однако компания намерена совершить технологический скачок, запустив опытное производство на базе EUV уже в следующем году. Ожидается, что полномасштабное внедрение этой передовой технологии произойдет в 2025 году.
Завод Микрон в Хиросиме (Япония) станет первой площадкой для экспериментального производства памяти по технологии 1γ с использованием EUV-литографии. Генеральный директор компании Санджай Мехротра подтвердил, что разработка идет полным ходом и соответствует намеченному графику.
В ответ на растущий спрос на высокопроизводительные чипы памяти, вызванный развитием искусственного интеллекта, Микрон также рассматривает возможность расширения производства. Компания планирует построить пилотную линию для выпуска высокопроизводительной памяти (HBM) в США и изучает перспективы организации производства HBM в Малайзии.
Хотя Микрон несколько отстает от конкурентов в освоении EUV-технологии для производства DRAM, компания уверенно движется к цели. Этот шаг позволит Микрон укрепить свои позиции на рынке и предложить потребителям более совершенные и эффективные решения в области памяти.