Завершен монтаж первого литографического сканера для производства 2-нм микросхем по инновационной технологии
![Завершен монтаж первого литографического сканера для производства 2-нм микросхем по инновационной технологии Завершен монтаж первого литографического сканера для производства 2-нм микросхем по инновационной технологии](/upload/iblock/49b/6p8di2pjupumrufxjt1f9n0p128ozpsu/asml_01-_1_.jpg)
Высокая стоимость – одна из основных проблем, ограничивающих изготовление чипов по 2-нм процессу. Решить ее удалось компании ASML, успешно завершившей установку сканера Twinscan NXE:3800E, в котором используется не высокая, а низкая числовая апертура Low-NA.
Несмотря на принадлежность к классу Low-NA, новый сканер лишен большинства недостатков, характерных для техники этого типа. Более того, прямое сравнение показывает и превосходство над сканерами High-NA, NXE:3800E работает быстрее, при этом стоит дешевле.
Часовая производительность новой модели окажется на уровне 220 пластин, что гораздо выше, чем у устройств предыдущего поколения, способных выпускать не больше 160. Сканер на 100% подходит для изготовления 2-нм и 3-нм чипов. Компания-производитель уже выступила с заявлением, что работа по совершенствованию сканеров будет продолжена, в 2026 году ожидается появление модифицированной версии 4600F.