Тайвань активно развивает R&D в области фоторезистов

10 марта 2025

Фоторезисты и их роль

Фоторезист (PR) представляет собой важнейший компонент в фотолитографии, который используется в производстве полупроводниковых устройств, печатных плат и дисплейных панелей. На мировом рынке PR наблюдается высокая концентрация: три компании — Merck, Dow Chemical и Tokyo Ohka Kogyo (ТОК) — контролируют более 90% рынка благодаря строгим стандартам надежности.

Инициативы Тайваня по развитию отрасли

В отчете Министерства экономики Тайваня отмечается острая необходимость разработки отечественной технологии нанесения фоторезиста с ультратонкой толщиной. Исследование, проведенное Администрацией промышленного развития Тайваня (IDA), подчеркивает важность ослабления ограничений на импорт как регулируемых, так и нерегулируемых материалов.

Правительственная поддержка

Правительство предпринимает активные действия, направленные на достижение самообеспеченности полупроводниковыми материалами. Для этого разрабатываются нормативные указания и реализуются программы проверки, что позволяет создать более устойчивую и независимую систему поставок.

Ключевые направления развития

Инициатива нацелена на поддержку отечественных компаний в разработке ключевых полупроводниковых материалов, включая:

Тонкопленочные процессы
Фотолитографию
Влажную уборку
Химическую полировку
Упаковку и подложки

Особое внимание уделяется:

Усилению подложек
Материалам для полупроводниковых конденсаторов
Упаковке с высокой теплопроводностью
Фоторезистам
Предшественникам для миниатюризации чипов
Материалам для крепления к матрице
Безводному фтористому водороду

Рынок контрольно-измерительного оборудования

На рынке полупроводникового контрольно-измерительного оборудования преобладают иностранные компании:

KLA (около 50% рынка)
Applied Materials
Hitachi

Технологические вызовы

Ключевые технологии, такие как низкоугловое лазерное сканирование, в значительной степени контролируются:

Lasertec
KLA
EtaMax

Будущие перспективы

В области химико-механической полировки (CMP) технологическое преимущество остается за подразделением DuPont Rohm and Haas. Министерство экономики предупреждает, что по мере приближения производства к уровням ниже 2 нм, уменьшение дефектов поверхности становится критически важным. Даже незначительные дефекты могут существенно повлиять на выход годной продукции, что подчеркивает растущие сложности производства полупроводников нового поколения.